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基于專利視角的Micro LED產(chǎn)業(yè)技術態(tài)勢分析

字體變大  字體變小 發(fā)布日期:2025-10-23  來源:世界科技研究與發(fā)展  瀏覽次數(shù):1679
核心提示:目前,全球Micro LED技術正處于高速發(fā)展期。自2015年起,專利申請量顯著增長,技術逐漸從實驗室走向產(chǎn)業(yè)化。中國已成為全球?qū)@季值谝淮髧,專利申請量達10079件,遠超美國(5452件)和韓國(2729件)。技術內(nèi)容集中在外延結構、巨量轉(zhuǎn)移、全彩化、驅(qū)動集成等關鍵環(huán)節(jié),IPC分類中H01L27/15(光發(fā)射半導體元件)、H01L33/00(發(fā)光半導體器件)等基礎技術類別專利積累最為深厚。創(chuàng)新主體以企業(yè)為主導,京東方、TCL華星、三星等頭部企業(yè)在器件設計、轉(zhuǎn)移工藝、顯示模組等方面形成廣泛布局,高校參
 
 
Micro LED顯示技術的原理是將LED結構設計進行薄膜化、微小化、陣列化,其尺寸僅在1~10微米之間,然后再將Micro LED芯片批量轉(zhuǎn)移至電路基板上,并利用物理沉積制程完成保護層和電極制作,最后進行上基板的封裝后完成顯示。Micro LED與OLED、QLED一樣,都屬于主動發(fā)光式顯示技術,但Micro LED顯示使用的是無機GaN類的LED芯片,其發(fā)光性能更加優(yōu)異,使用壽命也更長。
當前Micro LED領域研究呈現(xiàn)多元化特征。多數(shù)文獻利用專利數(shù)據(jù)庫(如incoPat)開展宏觀態(tài)勢、技術構成、地域分布、核心專利和競爭格局分析,輔以技術路線圖、功效矩陣,系統(tǒng)評估Micro LED領域的創(chuàng)新趨勢與產(chǎn)業(yè)布局。部分研究專注技術性能優(yōu)化與器件制備領域理論研究,探討如何通過有限元仿真、陣列化設計和工藝實驗等方法,提升Micro LED的光電性能、散熱效率和全彩顯示能力。還有學者結合區(qū)域產(chǎn)業(yè)基礎、企業(yè)合作與政策支持情況,探討Micro LED產(chǎn)業(yè)化面臨的挑戰(zhàn)、機遇與發(fā)展路徑。
本文整合專利計量與BERTopic主題模型分析方法,在傳統(tǒng)維度如專利申請趨勢、技術分布、區(qū)域格局和創(chuàng)新主體分析的基礎上,進一步實現(xiàn)了對Micro LED領域技術主題的細粒度聚類與語義挖掘。同時,通過引入保護類型、法律狀態(tài)與專利價值等多重指標,構建了融合技術、主體、法律與價值維度的綜合分析框架,從而在分析方法和研究維度上對現(xiàn)有研究形成了有益補充與拓展。
1 產(chǎn)業(yè)技術概況
從產(chǎn)業(yè)層面來看,一方面,頭部面板廠商加速全產(chǎn)業(yè)鏈整合。例如,2025年3月,京東方華燦光電6英寸Micro LED量產(chǎn)線交付,年產(chǎn)Micro LED晶圓2.4萬片、像素器件45000kk顆,應用于AR/VR、車載顯示等領域;2025年5月,友達再次刷新紀錄與良率限制,鉆研大型化、透明化的跨域應用突破,展示全球單片尺寸最大的42英寸透明Micro LED顯示器拼接而成的64英寸透明Micro LED顯示器。另一方面,LED芯片與材料廠商不斷尋求技術突破與產(chǎn)能擴張。例如,2024年10月,湖北三安Mini/Micro顯示產(chǎn)業(yè)化項目總投資120億,項目達產(chǎn)后,新增氮化鎵Mini/Micro LED芯片161萬片/年、砷化鎵Mini/Micro LED芯片75萬片/年(均以4寸為當量片)和4K顯示屏用封裝產(chǎn)品8.4萬臺/年的生產(chǎn)能力,供給三星、TCL科技等知名企業(yè);2025年6月,乾照光電發(fā)布公告,將募投項目“Mini/Micro、高光效LED芯片研發(fā)及制造項目”中的2.04億元募集資金,用于實施新的“砷化鎵芯片擴產(chǎn)項目”。
從技術層面來看,Micro LED技術可分為前端外延芯片制造與后端巨量轉(zhuǎn)移封裝兩大環(huán)節(jié)。前端聚焦于襯底材料(硅襯底、GaN襯底)、外延生長工藝(多量子阱結構、應力釋放層)及芯片結構設計(垂直/水平結構、透明導電層);后端則集中于巨量轉(zhuǎn)移技術(真空拾取、激光轉(zhuǎn)移、流體自組裝)、全彩顯示方案(量子點轉(zhuǎn)換、三色芯片集成)及驅(qū)動電路設計(TFT背板、被動驅(qū)動)。重點技術概況如圖1所示。
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Micro LED重點技術概況

 


2 數(shù)據(jù)來源
本研究以德溫特專利數(shù)據(jù)庫(Derwent Innovations Index)作為檢索數(shù)據(jù)庫,以"Micro led""晶片焊接""巨量轉(zhuǎn)移""芯片焊接""鍵合驅(qū)動""全彩化"等關鍵詞為核心,結合IPC號構建綜合檢索式。為確保本研究所用數(shù)據(jù)的準確性和可靠性,進一步開展了以下數(shù)據(jù)清洗工作。
1)初步篩選:根據(jù)專利的標題、摘要和關鍵詞等信息,運用關鍵詞匹配和邏輯規(guī)則篩選,排除明顯與Micro LED技術領域不相關的專利(如對于僅在背景技術中簡單提及相關關鍵詞,而主要內(nèi)容涉及其他無關領域的專利予以剔除)。
2)人工去噪:對初步篩選后的剩余專利按相關性倒序排列,在前20%的數(shù)據(jù)中進行隨機抽樣審閱,并通過迭代調(diào)整檢索式,手動剔除明顯不相關的結果(如與LED照明、顯示面板驅(qū)動電路等宏觀領域相關但并非針對Micro LED核心制造工藝的專利)。
3)人工復核:對經(jīng)過上述步驟篩選后的專利數(shù)據(jù)進行人工復核,由不同研究人員對同一批專利進行獨立審核,對比審核結果,對存在爭議的專利進行討論和重新評估,最終確定是否保留在數(shù)據(jù)集中。
經(jīng)過上述數(shù)據(jù)清洗流程后,最終得到的專利數(shù)據(jù)集共包含10779篇專利文獻。檢索時間2025年7月28日。由于專利從申請到公開最長有18個月的時滯,2024年數(shù)據(jù)尚不完整。
3 專利態(tài)勢分析
3.1 專利申請趨勢
從總體趨勢來看(圖2),2000年至2014年,Micro LED相關技術處于起步發(fā)展階段,全球年均專利申請量不足20件,增長緩慢。該階段,Micro LED相關制造技術復雜、生產(chǎn)工藝尚不成熟。2000年,美國堪薩斯州立大學江紅星等制備基于Ⅲ族氮化物的Micro LED,并于2001年報道了采用無源驅(qū)動的方式,成功制備了10×10的藍光Micro LED陣列,為Micro LED顯示的發(fā)展奠定了理論基礎。2012年,索尼發(fā)布基于Micro LED的55英寸高清LED電視樣品,Micro LED作為商業(yè)化產(chǎn)品第一次出現(xiàn)在大眾視野。
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2015年以來,全球Micro LED領域相關專利年申請量突破百件,且增速顯著,相關技術進入快速發(fā)展階段。這一時期的研發(fā)驅(qū)動因素主要是顯示領域企業(yè)的商業(yè)化應用需求。2016年6月,索尼在InfoComm和德國IFA展上都展示了Micro LED元件作為像素使用的CLEDIS顯示屏,其出色的顯示效果受到業(yè)界高度褒獎,開啟了Micro-LED的研究熱潮。此外,由于Micro LED顯示技術橫跨多個產(chǎn)業(yè)領域,加之在微型顯示、顯示面板等應用想象空間非常廣,吸引了不少業(yè)者投入研發(fā),使其逐漸成為國際競爭關鍵科技焦點之一。
從重點細分技術領域來看(圖3),巨量轉(zhuǎn)移技術布局較早,增長相對平穩(wěn),在2020年達到申請高峰后進入平臺期,表明該技術仍面臨重大挑戰(zhàn),創(chuàng)新從原理突破轉(zhuǎn)向針對具體工藝場景的深度優(yōu)化。鍵合技術作為異質(zhì)集成關鍵環(huán)節(jié)增長態(tài)勢顯著,前期申請量較少,從2016年開始急劇增加,2022年申請量達152件高峰,表明該技術在近年來成為研發(fā)熱點。封裝技術趨勢與鍵合技術聯(lián)動明顯,相關專利申請量在2016年前增長相對平緩,之后快速上升,2023年到達138件的高位,增長趨勢突出。全彩化技術專利申請量持續(xù)穩(wěn)步增長,從2000年的4件增長至2023年的98件,量子點色轉(zhuǎn)換、三色集成等方案的持續(xù)創(chuàng)新,推動全彩化技術成為提升顯示性能的核心突破口。外延生長作為顯示產(chǎn)業(yè)鏈上游支撐技術,前期申請量較少,2017年后開始快速增長,2023年達到177件的峰值。2022—2024年,外延生長技術的年申請量持續(xù)排名第一,反映出業(yè)界高度重視提升芯片本征性能的研發(fā)。未來隨著AR/VR、裸眼3D等新興顯示需求爆發(fā),巨量轉(zhuǎn)移、全彩化等瓶頸技術的專利競爭將更加激烈。
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3.2 主要技術分布
從IPC分布來看(表1),全球Micro LED領域的專利申請量最多的兩個細分領域為H01L27/15和H01L33/00,相關專利申請量均超過2000件。此外,H01L25/075、H01L33/62、G09F9/33、G09G3/32四個細分領域也有一定專利布局,專利申請量均超過1000件。

全球Micro LED領域技術分布(IPC20

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3.3 主要國家/組織分布
全球Micro LED技術領域相關專利申請遍布多個國家/組織,主要包括中國(10079件)、美國(5452件)、韓國(2729件)、世界知識產(chǎn)權組織(2494件)等(圖4)。
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3.4 主要專利權人
從專利權人類型來看(表2),全球Micro LED技術領域?qū)@麛?shù)量TOP20的專利權人僅有1個為高校類型,其余19個均為企業(yè),說明該技術領域的產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新驅(qū)動力較高。從專利權人及其所屬國家來看,來自中國的專利權人最多,共13家,占比超過一半;其次是美國,擁有臉譜科技有限責任公司、蘋果公司、英特爾公司3個;然后是韓國,擁有三星電子公司、LG顯示器股份有限公司2個;其余2家為日本顯示器株式會社、荷蘭亮銳(Lumileds)公司。從專利申請量來看,中國京東方科技集團股份有限公司(647件)、TCL華星光電技術有限公司(453件)位列全球前兩位;韓國雖只有2家企業(yè)入圍,但排名較前(第三、第四);排名五至九的均為中國企業(yè)。由此可見,中國在全球Micro LED技術領域集聚了眾多實力雄厚的龍頭企業(yè),行業(yè)領軍效應顯著。
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從技術布局來看(圖5),京東方相關專利布局數(shù)量多且領域廣,涉及半導體元器件及其零部件、顯示面板、電流導出裝置、制造方法或設備等細分領域;三星電子、LG均在H01L27/15、H01L25/075、H01L33/62三個領域布局了較多專利,聚焦于半導體器件細分領域;TCL華星光電在H01L27/15、H01L33/62、G09F9/33領域的專利申請相對較多,與京東方存在一定的同質(zhì)化競爭;天馬微電子除H01L27/15領域外,還在G09F9/33、G09G3/32領域有一定專利布局,側重于半導體器件的制造;顯耀顯示不僅在H01L27/15、H01L25/075、H01L33/62三個領域布局了較多專利,在H01L33/58領域的專利數(shù)量也相對較多,體現(xiàn)了其在光場整形元件細分領域的相對優(yōu)勢。
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5 Micro LED技術主要專利權人技術布局
4 專利保護現(xiàn)狀
4.1 技術主題
采用BERTopic模型對全球Micro LED技術領域?qū)@麛?shù)據(jù)集進行主題抽取,共得到35個細分技術領域,進一步通過層次聚類,得到顯示設備、量子點/全彩化、顯示應用、材料及元器件、芯片、顯示屏六大主題(圖6、表3)。其中,顯示設備領域主要覆蓋了基板、驅(qū)動、陣列、面板等細分方向;量子點及全彩化領域主要涉及量子點、轉(zhuǎn)換、垂直堆疊、像素等;顯示應用主要聚焦于Micro LED在微型顯示領域(3D打印、增強現(xiàn)實等)的實踐;材料及元器件主題涉及了氮化鎵、熒光粉、二極管、模組等;芯片的研究重點涉及晶圓、外延、襯底、焊接、鍵合、巨量轉(zhuǎn)移等;顯示屏方面主要涉及屏幕、結構、連接、電池、電路等。
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Micro LED技術領域?qū)哟尉垲悎D

 

表3 Micro LED技術主題分類概況圖片
4.2 保護類型
通過分析全球Micro LED領域相關專利的保護類型可以發(fā)現(xiàn),該領域的專利申請類型主要為發(fā)明專利(88.91%,包括發(fā)明申請58.55%,授權發(fā)明30.36%);實用新型專利相對較少(10.97%);外觀設計類專利申請極少(僅0.12%)。
從不同類型的專利申請的技術領域來看(表4),發(fā)明專利主要涉及芯片、材料及元器件、面板、顯示器等關鍵部件制備方法的創(chuàng)新與改進;實用新型專利主要涉及顯示應用、配套裝置或設備、顯示裝置等內(nèi)容。
全球Micro LED領域發(fā)明及實用新型專利技術創(chuàng)新概況
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綜上所述,當前Micro LED技術相關專利的創(chuàng)新要點主要包括如下6項。
1)芯片巨量轉(zhuǎn)移與制造技術。通過陣列結構改進、倒裝鍵合工藝優(yōu)化,從磁力、膠印和真空吸附等方面入手,進一步實現(xiàn)高效率、高精度與高良率的巨量芯片轉(zhuǎn)移與集成
2)微顯示器件制備。通過物理場調(diào)控、界面圖案化、序列化功能沉積、三維互連等方式,降低制造成本與工藝步驟,實現(xiàn)器件功能密度的提升與像素級的高精度控制。
3)顯示面板、像素電路及驅(qū)動技術。在結構層設計、引線防護處理、驅(qū)動架構與精準電學調(diào)控方面進行改進,提升面板制備良率、優(yōu)化面板彎折能力、增強周邊區(qū)域穩(wěn)定性并加強亮度線性控制。
4)顯示器性能提升。通過微納光學設計、矩陣排布優(yōu)化與低功耗集成等方式,提升顯示器亮度、對比度及色彩表現(xiàn),同時降低光學干擾與系統(tǒng)功耗,延長續(xù)航。
5)配套檢測設備。開發(fā)缺陷、性能檢測設備,提升顯示設備的整體生產(chǎn)良率與制造效率,降低后續(xù)工藝的復雜性及綜合生產(chǎn)成本。
6)應用拓展。借助Micro LED光電性能優(yōu)勢,深度融合AR/VR、3D打印、近眼顯示等跨領域光學系統(tǒng),提升終端應用性能,革新系統(tǒng)架構。
4.3 法律狀態(tài)
從全球Micro LED技術專利的法律狀態(tài)來看(圖7),失效專利占比超過1/5,其中,撤回或駁回的占比相對較高,接近13%;未繳年費導致失效的占比為4.35%;因為期限屆滿原因?qū)е率У恼急炔蛔?%。有效專利占比為40.87%,反映出當前仍有較高比例的核心技術在保護中。審中專利占比達36.93%,說明該領域技術仍在更新迭代,創(chuàng)新活躍度較高。還有少量專利處于PCT指定期內(nèi),表明部分創(chuàng)新主體處于國際市場布局的猶豫期。
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圖7 全球Micro LED技術專利法律狀態(tài)
4.4 價值分布
依據(jù)智慧芽專利價值評估體系,對全球Micro LED技術專利價值分布進行分析。智慧芽專利價值評估體系構建于深度加工的專利大數(shù)據(jù)基礎之上,采用市場法作為核心評估方法,并結合先進的機器學習模型開展專利價值估算工作。需要特別指出的是,目前該評估體系暫未將外觀設計納入價值評估范疇。
本小節(jié)所探討的專利價值本質(zhì)上屬于相對價值,而非絕對價值。盡管如此,通過統(tǒng)一標準所計算得出的相對價值,仍能夠在一定程度上客觀反映高價值專利在全球不同區(qū)域的布局態(tài)勢,為相關領域的研究與實踐提供具有價值的參考依據(jù)。
基于智慧芽專利價值評估體系,全球Micro LED技術專利價值分布(圖8)主要呈現(xiàn)以下特點:中國在低價值專利申請量上占比較高,高價值(300萬美元以上)領域也有一定布局,主要涉及光源、元器件、顯示設備相關的核心部件,如多色微型LED陣列光源(CN110462833B)、通過堆疊微型LED的層來制造半導體器件(CN118281036A);美國、日本在中高價值區(qū)間(30萬美元以上)的專利數(shù)量占比相對較高,技術競爭力較強,且中高價值專利的覆蓋領域也較廣,包括材料、元器件、顯示器等多個方面,如一種高效micro-LED模組的制作方法(US10847506B2)、有源矩陣發(fā)射微型LED顯示器(US9343448B2)、改進micro-LED器件的方法和裝置(US9502595B2)等;韓國的專利主要處于中低價值區(qū)間(30萬美元以下),高價值專利相對缺失。
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5 結論與建議
5.1 主要結論
目前,全球Micro LED技術正處于高速發(fā)展期。自2015年起,專利申請量顯著增長,技術逐漸從實驗室走向產(chǎn)業(yè)化。中國已成為全球?qū)@季值谝淮髧瑢@暾埩窟_10079件,遠超美國(5452件)和韓國(2729件)。技術內(nèi)容集中在外延結構、巨量轉(zhuǎn)移、全彩化、驅(qū)動集成等關鍵環(huán)節(jié),IPC分類中H01L27/15(光發(fā)射半導體元件)、H01L33/00(發(fā)光半導體器件)等基礎技術類別專利積累最為深厚。創(chuàng)新主體以企業(yè)為主導,京東方、TCL華星、三星等頭部企業(yè)在器件設計、轉(zhuǎn)移工藝、顯示模組等方面形成廣泛布局,高校參與程度較低,僅廈門大學進入專利申請量TOP20,表明技術研發(fā)具有較強的產(chǎn)業(yè)化導向。
從技術主題來看,專利集中分布于六大領域:顯示設備、量子點/全彩化、顯示應用、材料與元器件、芯片及顯示屏。其中,“芯片”主題涵蓋巨量轉(zhuǎn)移、焊接鍵合、外延生長等核心工藝,仍是專利布局的熱點與難點;“量子點/全彩化”和“顯示設備”相關技術也在迅速成長,表明色彩實現(xiàn)與驅(qū)動集成是當前技術演進的重要方向。
從法律狀態(tài)來看,該領域?qū)@П壤^高(超20%),其中約13%因撤回或駁回失效,一定程度上反映出專利申請質(zhì)量及撰寫水平仍有提升空間;同時,審中專利占比達36.93%,表明技術仍處于快速迭代階段,創(chuàng)新活躍。
從價值分布來看,中國雖在專利申請量上占優(yōu),但高價值專利(評估價值超300萬美元)占比較低,技術多集中于中低價值區(qū)間;相比之下,美國、日本在中高價值專利布局上表現(xiàn)突出,技術競爭力更強。
綜合專利態(tài)勢,Micro LED技術呈現(xiàn)融合發(fā)展趨勢,特別是光電子與集成電路、人工智能結合日益緊密,驅(qū)動技術向高精度、高集成度方向發(fā)展。此外,Micro LED技術的應用場景也在持續(xù)擴展,從高端商用顯示逐步延伸至AR/VR、車載顯示、可穿戴設備等消費電子領域。
5.2 發(fā)展建議
1)強化高價值專利布局,突破關鍵共性技術。圍繞巨量轉(zhuǎn)移、全彩化、芯片集成等瓶頸領域,加強基礎技術研發(fā)與原始創(chuàng)新,提升專利質(zhì)量與核心技術掌控力,避免低水平重復申請。
2)構建產(chǎn)學研協(xié)同機制,促進技術共享與轉(zhuǎn)化。鼓勵企業(yè)與高校、科研機構共建研發(fā)平臺,推動高校前沿研究成果(如量子點、新型襯底等)通過專利合作、許可等方式向產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)化。
3)聚焦差異化應用場景,發(fā)揮領域優(yōu)勢。結合京東方、TCL華星光電、天馬微電子等頭部企業(yè)在顯示面板、顯示器件等細分領域的專利優(yōu)勢,大力開發(fā)車載AR-HUD、醫(yī)療內(nèi)窺鏡等應用方向,通過場景定制化設計實現(xiàn)專利價值。
4)跟蹤國際專利動態(tài),規(guī)避侵權風險。密切關注美國、日本等在高價值專利方面的技術路線與權利范圍,開展風險預警與規(guī)避設計,提升企業(yè)國際競爭與應對能力。
5)推動標準與專利協(xié)同,增強產(chǎn)業(yè)話語權。積極參與國際標準制定,推動專利與技術標準結合,形成以標準為牽引的專利池,提升中國企業(yè)在全球Micro LED生態(tài)中的主導力。



轉(zhuǎn)自世界科技研究與發(fā)展

作者胡思思,李貞貞



 
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